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主要由丙二醇甲醚醋酸酯、甲酚 - 甲醛酚醛树脂（CAS-NO.9016-83-5，浓度 21%）、6 - 重氮 - 5,6 - 二氢 - 5 - 氧代 - 1 - 萘磺酸与 2,3,4 - 三羟基二苯...

LD12 解键合机?？榻徊讲钩淞?SUSS MicroTec 公司基于激光的晶片处理产品组合。其基本原理是使用高能量密度和低脉冲持续时间的准分子Ji Guang Qi，在室温下解除晶圆与部件和玻璃载...

用于SENTECH Instruments等离子系统的SENTECH SLI激光干涉仪端点监测器与聚焦的相干激光束一起工作。激光束穿过等离子系统的顶部视口，并被样品反射。反射光照射到检测器上并测量强度...

深硅刻蚀机PSE V300主要用于12英寸深硅刻蚀，同时兼具Bosch/Non-Bosch工艺，实现多工艺领域覆盖。该机台针对Bosch循环工艺方式采用专业先进的快速响应硬件配置及软件流程控制，结合先...

深硅刻蚀机HSE P300主要用于12英寸硅刻蚀。采用Cluster结构布局，能够减小占地，提升产能。系统主要由传输?？?、工艺模块、灰区部件、电源柜等组成。可实现自动化地上下料及自动工艺。HSE M2...

GAMA系列6/8英寸全自动槽式清洗机满足全部湿法工艺需求，覆盖RCA、PR Strip、Solvent、Wet Etch等应用，可用于典型0.35um、0.18um工艺节点，可支持90nm工艺节点，...

12英寸立式中高温氧化炉THEORIS X302H主要用于12英寸1000℃-1200℃高温和超高温氧化和退火工艺。该机台为立式单腔炉管系统，工艺处理过程实现了高度自动化。系统主要由传输模块、工艺?？?..

12英寸槽式清洗设备Pinnacle300平台适用于集成电路、功率半导体、衬底材料、硅基微显示领域的清洗工艺。该机台主要由传输?？?、工艺?？?、药液供给系统、电源柜等组成。传输模块将晶圆传送到位置，可同...

电测量测试设备源测量仪范围从精密仪器、专用仪器、通用仪器到基本仪器。我们的 SMU 可实现低功耗集成电路、汽车系统和其他复杂系统的简化和自动化，以实现高效、可靠和可重复的测试。

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